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概 述 | ||
X射线晶体分析仪应用于研究物质内部微观结构。如:单晶定向、检验缺陷、物质定性、 测定点阵参数、测定残余应力等。 | |||
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X射线发生器 | ||
管电压:10~60kV由单片机自动控制(1Kv/step);管电流:5~80mA由单片机自动控制 (1mA/step);管电压、管电流稳定度≤0.3‰;额定输出功率:3kW;单片机自动定时, 时间任意选择;有无压、无鎏、过压、过流、过功率、无水、X射线管超温保护。 | |||
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制冷冷却系统 | ||
该装轩自带制冷系统,无需外接水循环,无需外接水循环,并自动控制水温及显示X射 | |||
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X射线防护罩 | ||
采用高密度、高透光性的铅玻璃作为X射线防护装置,外射线量不大于2.5μSv/hx | |||
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X射线管 | ||
额定功率:2kW |
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相 机 | ||
可配劳厄粉末(国产)或纪尼叶相机(进口) | |||